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UV光氧催化设备工艺原理

UV光氧催化设备工艺原理

简要描述:
UV光氧催化设备工艺原理

光氧除臭设备技术原理
一、本产品利用臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,改变恶臭使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。

更新时间:2019-05-07

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UV光氧催化设备工艺原理

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UV光氧催化设备工艺原理

光氧除臭设备技术原理
一、本产品利用臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,改变恶臭使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。
二、利用臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),*臭氧对有机物具有强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有*的清除效果。
三、恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,*达到脱臭及杀灭细菌的目的。

 

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